蔡司EVO 18 分析型扫描电镜 扫描电子显微镜
【品牌故事】
世界知名光学品牌，可见光及电子光学的领导企业----德国蔡司公司始创于1846年。其电子光学前身为LEO（里奥）,更早叫Cambridge（剑桥），积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验。
CARL ZEISS以其前瞻性至臻完美的设计融合欧洲至上制造工艺造就了该品牌在光电子领域。自成立至今，一直延续不断创新的传统，公司拥有电镜制造核心先进的专有技术，随着离子束技术和基于电子束的分析技术的加入、为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等全系列解决方案的电镜制造企业。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。
【总体描述】
蔡司（ZEISS）推出的 EVO 18钨灯丝系列扫描电镜, 具有处理所有类型材料能力的分析显微镜为您提供卓越的成像质量。配备X射线能谱仪接口，并拥有的X射线几何条件对所有样品提供了精确的分析。对于非导体采用电子束衬管技术也提高了图像质量和分析精度。
【技术参数】
分辨率：3.0 nm @ 30 KV (SE 与W)、4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD )
加速电压：0.2-30KV
放大倍数：5-1000000 x
探针电流：0.5PA-5μA
X-射线分析工作距离：8.5mm 35度接收角
低真空压力范围：10-400Pa（选配10-750Pa、LS10:环扫模式10-3000pa）
工作室：365mm (Φ) x 275 mm (h)
5轴优中心自动样品台：X=125mm Y=125mm Z=50mm T= -10°- 90° R=360°(l连续)
试样高度：145mm 试样直径：250mm
系统控制：基于Windows 7 的SmartSEM 操作系统
存储分辨率为32,000 x 24,000 pixels
【产品应用】
蔡司（ZEISS） EVO 18钨灯丝系列扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。
世界知名光学品牌，可见光及电子光学的领导企业----德国蔡司公司始创于1846年。其电子光学前身为LEO（里奥）,更早叫Cambridge（剑桥），积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验。
CARL ZEISS以其前瞻性至臻完美的设计融合欧洲至上制造工艺造就了该品牌在光电子领域。自成立至今，一直延续不断创新的传统，公司拥有电镜制造核心先进的专有技术，随着离子束技术和基于电子束的分析技术的加入、为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等全系列解决方案的电镜制造企业。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。
【总体描述】
蔡司（ZEISS）推出的 EVO 18钨灯丝系列扫描电镜, 具有处理所有类型材料能力的分析显微镜为您提供卓越的成像质量。配备X射线能谱仪接口，并拥有的X射线几何条件对所有样品提供了精确的分析。对于非导体采用电子束衬管技术也提高了图像质量和分析精度。
【技术参数】
分辨率：3.0 nm @ 30 KV (SE 与W)、4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD )
加速电压：0.2-30KV
放大倍数：5-1000000 x
探针电流：0.5PA-5μA
X-射线分析工作距离：8.5mm 35度接收角
低真空压力范围：10-400Pa（选配10-750Pa、LS10:环扫模式10-3000pa）
工作室：365mm (Φ) x 275 mm (h)
5轴优中心自动样品台：X=125mm Y=125mm Z=50mm T= -10°- 90° R=360°(l连续)
试样高度：145mm 试样直径：250mm
系统控制：基于Windows 7 的SmartSEM 操作系统
存储分辨率为32,000 x 24,000 pixels
【产品应用】
蔡司（ZEISS） EVO 18钨灯丝系列扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。
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